可處理最高常用溫度1650℃的SiC超高溫熱處理
除了In situ Cleaning，還擁有兼顧超高純度工藝與高產量需求的獨有技術
可處理高精度/高真空/高溫工藝的急速降溫
可以自有耐腐蝕/密封技術處理腐蝕性/毒性氣體的使用
從研發到6inch大批量生產的豐富產品
多年累積的采購以及量產運用上的豐富業績
化（O2、Pyrogenic）
氧氮化（N2O、NO）
退火（N2、Ar、H2、NH3）
POA（Post Oxidation Anneal）
Ailesic-2000
常用溫度：1200℃~1900℃
最高使用溫度：1950℃
溫度均一性：1900±5℃（±0.3% ）
溫度再現性：1900±2℃（±0.1%）
晶體尺寸：Φ4~ Φ6 inch
處理片數：25片/批
降溫時間：85分鐘以內
*從1900 ℃到unloading溫度
